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事件点评：4 月21 日，拓荆科技发布2023 年第一季业绩报告，2023Q1 公司实现营收4.02 亿元，环比下降43.65%，同比增长274.24%；归母净利润为0.54 亿元，环比下降59.00%，相较上年同期扭亏为盈；扣非归母净利润为0.20 亿元，环比下降70.39%，相较上年同期扭亏为盈。毛利率49.78%，环比下降0.80pcts，同比增长2.34pcts；净利率12.99 %，环比下降5.13 pcts，较上年同期由负转正。2022 年，公司营收17.06 亿元，同比增长125.02%，业绩符合预期。

PECVD 设备为公司主要收入贡献者，占总营收比例超90%。2022 年PECVD 设备营收为15.63 亿元，同比增长131.44%，占营收91.65%，毛利率为49.41%；SACVD 业务营收为0.89 亿元，同比增长117.39%，占营收5.25%，毛利率为46.82%；ALD 设备营收为0.33 亿元，同比增长13.85%%，占营收1.91%，毛利率为46.04%。

2022 年业绩变化主要原因包括：（1）国内半导体设备需求增加，全年订单大幅增长：受益于国内半导体行业良好发展态势，国内半导体设备需求增加，公司2022年全年签订销售订单金额为43.62 亿元（不含Demo 订单），新增订单与上年同期相比增加95.36%。（2）薄膜系列产品应用规模持续扩大：公司薄膜系列产品在晶圆制造产线量产应用规模持续扩大，公司设备在客户端产线生产产品累计流片量突破1 亿片。且公司设备在客户端产线生产运行稳定性表现优异，平均机台稳定运行时间（Uptime）超过90%，达国际同类设备水平。

各产品线研发进展顺利，晶圆对晶圆键合产品完成从0 到1 且送至客户端验证。（1）PECVD 系列产品：持续扩大通用介质薄膜材料及先进薄膜材料工艺应用覆盖，多种不同工艺指标先进薄膜材料（包括LoKⅠ、ACHM、ADCⅠ、HTN 等）和设备均通过客户验证，进入量产产线。UV Cure（HTN 工艺）设备已通过不同客户产线验证，并实现产业化应用；（2）ALD 系列产品：PE-ALD（PF-300T Astra）产品在现有客户端完成产业化验证，取得突破性进展，PE-ALD（NF-300H Astra）在客户端验证进展顺利。Thermal-ALD（PF-300T Altair、TS-300 Altair）设备已完成研发，并出货至不同客户端进行验证，可沉积Al2O3 等金属化合物薄膜。（3）HDPCVD 系列产品： HDPCVD 设备可以同时进行薄膜沉积和溅射，HDPCVD（PF-300T Hesper）设备已通过产线验证，实现销售。（4）混合键合系列产品：

成功研制首台晶圆对晶圆键合产品Dione 300，并出货至客户端进行验证。已完成芯片对晶圆键合表面预处理产品Pollux 研发，该产品已出货至客户端进行验证。

库存80%商品取得正式销售订单，为后续业绩注入增长动能。受益于市场需求增加以及客户对公司产品认可度持续提升，公司新增订单及在手订单金额不断增加，为公司业绩快速增长提供有力保障。公司2022 年产销量均实现大幅度增长，产量增长76.77%，销量增长96.23%，产销规模持续提高。库存数量合计162 台，其中80%以上为已取得正式销售订单的发出商品，为后续年度营业收入增长提供保　　障。

投资建议：我们公司预测2023 年至2025 年营业收入分别为28.19/39.24/53.07 亿元，增速分别为65.3%/39.2%/35.3%；归母净利润分别为5.61/8.28/10.90 亿元，增速分别为52.3%/47.5%/31.7%；对应PE 分别91.5/62.0/47.1。考虑到拓荆科技PECVD 薄膜材料设备全系列覆盖，且晶圆对晶圆键合等产品取得突破性进展，并进入客户验证阶段，叠加美国政策限制使国产设备导入迎来历史机遇，首次覆盖，给予增持-A 建议。

风险提示：半导体行业景气度不及预期；国产替代进程放缓；公司产品研发进度不及预期。

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